3 个月前

基于二次约束的深度图匹配

基于二次约束的深度图匹配

摘要

近年来,基于深度学习的图匹配方法在图匹配问题上取得了令人瞩目的进展,其核心在于利用图节点上提取的深度特征所具备的强描述能力。然而,现有深度图匹配(Deep Graph Matching, DGM)方法的一个主要局限在于忽略了图结构的显式约束,这可能导致模型在训练过程中陷入局部最优。针对这一问题,本文提出将成对图结构显式建模为一种二次约束,并将其嵌入到DGM框架中。该二次约束旨在最小化两图之间的成对结构差异,从而有效缓解仅依赖提取的CNN特征所带来的歧义性。此外,本文提出了一种可微分的二次约束优化实现方式,使其能够与无约束的深度学习优化器兼容,保证了端到端训练的可行性。为实现更精确且合理的监督,我们设计了一种针对类别不平衡问题的伪匹配损失函数,该损失函数能够更有效地惩罚假阴性和假阳性样本,同时降低过拟合风险。大量实验结果表明,所提方法在多个真实世界数据集上均取得了具有竞争力的性能表现。

代码仓库

基准测试

基准方法指标
graph-matching-on-pascal-vocqc-DGM2
matching accuracy: 0.703
graph-matching-on-pascal-vocqc-DGM1
matching accuracy: 0.693
graph-matching-on-willow-object-classqc-DGM1
matching accuracy: 0.960
graph-matching-on-willow-object-classqc-DGM2
matching accuracy: 0.977

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